讲座主题：XPS技术原理和应用介绍
时间：2014年5月22号 10:00-11:00
摘要：X射线光电子能谱(XPS) 技术是一种重要的表面分析手段。该技术基于光电效应，采用X射线激发被测样品表面纳米尺度内的原子发射光电子，通过系统探测到所发射光电子的动能等信息，进而实现样品表面的元素种类及化合态的定性和定量的分析。XPS的分析范围广泛，可对从Li到U范围内的元素进行研究，因而不仅被广泛地应用于化学分析、材料开发应用研究、物理理论探讨等学术领域，还被广泛地应用于机械加工、印刷电路技术、镀膜材料工艺控制、纳米功能材料开发等工业领域。在本次网络讲堂中，我们将从基本技术原理来了解XPS的功能和应用，并进一步分享赛默飞XPS产品提供的行业解决方案实例。
讲座要点：
1. XPS的基本技术原理
2. XPS的主要功能和应用原理
a) 元素定量
b) 价态识别
c) 深度剖析
d) XPS成像
e) 其他扩展功能和多技术结合
3. 赛默飞XPS产品的行业应用实例：催化分析/生物医药/钢铁等行业的材料分析
主讲人简介：
葛青亲 博士，赛默飞表面分析应用专家
邮箱：albert.ge@thermofisher.com
敬请您的光临！
报名方法：
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